电子级超高纯大宗气体是芯片制程关键介质，傲领Orthopure系列色谱仪覆盖超高纯气体杂质检测需求，采用HDID、FID检测器精准检测H₂、N₂、Ar、CO、CO₂、CH₄、NMHC等ppb级痕量杂质气体，把控超高纯气体纯度。

用于连续品质控制（CQC）的杂质测量

芯片刻蚀工艺使用Cl₂、HBr、He、O₂等工艺气体，易造成晶圆表面杂质残留和微观缺陷等问题。飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）作为半导体掺杂和缺陷分析的有效技术手段，可为半导体工艺优化提供科学的数据支撑。

半导体硅晶圆缺陷分析

芯片光刻、刻蚀、‌薄膜沉积、清洗等工艺会产生酸性、碱性、有机类废气污染物。雪迪龙智能烟气在线监测系统，可对酸性废气排口、碱性废气排口、有机废气排口和废气焚烧排口实现废气排放精细化管控。

酸性气体监测-NOx、HF、HCl

紫外法CEMS

傅里叶红外法CEMS

原位激光气体分析仪

碱性气体监测-NH₃

有机气体监测-挥发性有机物（NMHC)、苯系物

颗粒物监测

雪迪龙水质在线监测系统可实现废水排放主动管控，依据《排污单位自行监测技术指南 电子工业》（HJ 1253-2022）要求，废水总排口需自动监测流量、pH值、化学需氧量、氨氮核心指标；半导体液晶面板制造（有表面涂装工序的）重点排污单位，增设总磷自动监测。

废水排放监测-pH值、CODCr、氨氮、总磷、总氮、重金属等